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氨分解設(shè)備



三基色熒光粉還原氨分解
發(fā)布時(shí)間:2022-01-17 瀏覽:575

氨分解制氫流程簡述:

利用液氨為原料,氨經(jīng)裂解后,每公斤液氨裂解可制得2.64Nm3混合氣體,其中含75%的氫氣和25%的氮?dú)狻K玫臍怏w含雜質(zhì)較少(雜質(zhì)中含水汽約2克/立方米,殘余氨約1000ppm),再通過分子篩(美國UOP)吸附純化器,氣體的露點(diǎn)可降至-600C以下,殘余氨可降至3PPM以下.

氨裂解制氫爐可用于有色金屬,硅鋼、鉻鋼和不銹鋼等金屬材料和零件的光亮退火、硅鋼片的脫碳處理、銅基、鐵基粉末冶金燒結(jié)、電真空器件的金屬零件燒氫處理、半導(dǎo)體器件的保護(hù)燒結(jié)和封結(jié)、鈀合金膜擴(kuò)散純化氫氣的原料氣等。

原料氨容易得到,價(jià)格低廉,原料消耗較少。氨裂解來制取保護(hù)氣體具有投資少,體積小,效率高等優(yōu)點(diǎn).

二.氨分解制氫工作原理:

氨(氣態(tài))在一定溫度下,經(jīng)催化劑(西南院Z204)作用下裂解為75%的氫氣和25%的氮?dú)?,并吸?1.9千卡熱量,其主要反應(yīng)為:2NH3—3H2+N2-21.9千卡

整個(gè)過程因是吸熱膨脹反應(yīng),提高溫度有利于氨裂解,同時(shí)它又是體積擴(kuò)大的反應(yīng),降低壓力有利于氨的分解,氨分解制氫設(shè)備為使用最佳狀態(tài)。

三.氫氣純化工作原理:

當(dāng)氨分解制氫設(shè)備所產(chǎn)生的氫氣合格時(shí)再進(jìn)入氫氣純化作進(jìn)一步提純處理,裂解氫氣的純度很高,其中揮發(fā)性雜質(zhì)只有微量的殘氨和水份,可見只須除去微量殘氨和水份即可獲得高純度氣體.氣體提純采用變溫吸附技術(shù)。變溫吸附(TSA)技術(shù)是以吸附劑(多孔固體物質(zhì))內(nèi)部表面對氣體分子在不同溫度下吸附性能不同為基礎(chǔ)的一種氣體分離純化工藝.

常溫時(shí)吸附雜質(zhì)氣,加溫時(shí)脫附雜質(zhì)氣,分子篩表面全是微孔,在常溫常壓下可吸附相當(dāng)于自重20%(靜態(tài)吸附時(shí)的水份和雜質(zhì),而在350℃左右的溫度下,可以再生完全,每24小時(shí)切換一次,以得到純度和雜質(zhì)含量均合格的產(chǎn)品氣體。


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